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影響屏蔽效果的因素

一、資料的導電性和導磁性越好，屏蔽效能越高，但實際的金屬資料不可能兼顧這兩個方面。例如Cu導電性很好，但是導磁性很差；Fe導磁性很好，但是導電性較差。應該使用什么資料，根據具體屏蔽主要依賴反射損耗、還是吸收損耗來決定是偏重導電性還是導磁性；另外還要考慮制造的成本問題，一般能夠滿足使用要求就是適合的屏蔽材料。

二、頻率較低的時候，吸收損耗很小，反射損耗是屏蔽效能的主要機理，要盡量提高反射損耗。

三、反射損耗與輻射源的特性有關，對于電場輻射源，反射損耗很大；對于磁場輻射源，反射損耗很小。因此，對于磁場輻射源的屏蔽主要依靠資料的吸收損耗，應該選用磁導率較高的資料做屏蔽材料。

四、反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關，對于電場輻射源，距離越近，則反射損耗越大；對于磁場輻射源，距離越近，則反射損耗越小。正確判斷輻射源的性質，決定它應該靠近屏蔽體，還是原理屏蔽體，結構設計的一個重要內容。

五、頻率較高時，吸收損耗是主要的屏蔽機理，這時與輻射源是電場輻射源還是磁場輻射源關系不大。

六、電場波是容易屏蔽的平面波，其次，磁場波是難屏蔽的，尤其是1KHz以下的低頻磁場，很難屏蔽。對于低頻磁場，要采用高導磁性材料，甚至采用高導電性資料和高導磁性資料復合起來的材料。